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    回到1987年做科技大亨 - 第一百六十五章 晶片生產設備到位試生產開始字體大小: A+
     

    其實我早就已經在做晶片產業的佈局了。雖然我也承認,咱們國家的晶片半導體技術,眼下是不如米聯邦。但也沒你們想的那麼差。

    告訴你們一個好消息吧!咱們I光源投影式國產光刻機已經完成了技術突破。理論上已經能夠製造出三百八十到三百五十納米以內的晶片。更重要的是屬於咱們自己的邏輯處理器晶片也已經設計完成,只要國產光刻機一到位,馬上就能生產出咱們自己的晶片了。」

    眾人聽到這當然是目瞪口呆了。

    龍翰科技能生產出自己的處理器晶片了。

    真的假的?

    這幸福也來的太突然了吧!

    韋弘業急忙道:「蘇總,您說的都是真的嗎?」

    蘇翰道:「當然是真的了。我是那種喜歡開玩笑的人嗎!對了,金總監,我在魔都建設的晶片工廠,已經建設完成了。你去組織一隊精兵勐將。我現在已經定了一套晶片試驗性的生產線,最近就要組裝,然後試生產。你去魔都的晶片生產廠,去那邊組織組織,把試驗車間準備好,東西一到位,儘快安裝。咱們要抓緊時間調試設備,必須要在短時間內,生產出咱們自己的晶片來。這次必須要讓米聯邦那幫傢伙看看,西方不亮東方亮,這地球離開誰都照樣轉。

    某國人不讓咱們用他們的晶片,咱們就自己造晶片。

    這次必須要讓全世界的人都知道,說到計算機,龍翰科技硬件水平也是一樣強。」

    金夢凡急忙拍胸脯接下了這個軍令狀。

    其他行政部門的負責人也是一臉的羨慕。

    金夢凡這麼一去十有八九就是地方大員了。

    國內首個晶片生產廠的行政一把手,想想也是牛逼的不行。

    蘇翰看了看眾人道:「大家按部就班,該幹什麼,還幹什麼。晶片的事情出去不要亂說,等到時候咱們用上自己的晶片以後,看看米聯邦那幫傢伙,還說什麼。」

    眾人聞言頓時是血條再次滿血復活。

    一個個再也不像之前那樣有氣無力了。

    紛紛都想打好這場翻身仗。

    ……

    會後。

    金夢凡帶着一幫親信前往魔都的晶片生產廠。

    晶片生產廠,已經建好半年多了,由於一直沒有設備,只是反覆在做空氣質量測試。

    畢竟晶片生產需要無塵環境對空氣質量要求還是非常高的。

    金夢凡帶隊到了以後,急忙組織人員,準備迎接設備的到來。

    ……

    一周后。

    首批測驗用的光刻機、封裝機、離子注入機等等設備紛紛到廠開始安裝。

    光刻機最重要的功能就是光源和曝光工藝。

    國產光刻機以前為什麼不行,主要是光源技術明顯滯后,當然曝光工藝也不行。

    其實國際市場上產量最大的晶片生產設備,普遍還是採用第一代G光源的一點五微米到八百納米左右的技術。

    畢竟不是所有的晶片都要求三百五十納米以內的高端晶片製造。

    而第二代的I光源才是主要用於三百六十五納米左右的晶片製造。

    不過第三代光源深紫外光(DUV)也已經有了。

    只是這會還不是很穩定並不能形成產能。

    而第四代光源技術極紫外光(EUV)現在所有人都沒有頭緒。

    全球所有的光刻機製造領域幾乎都卡在這個地方。

    雖然晶片生產已經嘗試向著第三代光源靠近。

    但量產的其實還是在第二代附近轉悠。

    英特爾公司的奔騰系列和AM公司的K系列用的都是第二代光源量產的產品。

    全球的光刻機市場,

    實際上還是第二代光源技術在坐莊。

    說到這個時間節點的光刻機製造水平。

    以長島國的兩個品牌為主。

    而蘇翰說的國產光刻機之前還處於第一代的水平。

    說完了光源問題又要說說曝光工藝的問題。

    畢竟光源和生產工藝缺一不可。

    現在的光刻機曝光工藝總共分為三種。

    第一種接近式曝光。

    第二種接觸式曝光。

    第三種投影式曝光。

    接觸式曝光精度很高。

    但接觸式曝光需要接觸晶圓片,容易造成晶圓片和掩膜版的損傷,良品率低,成本高,不適合大規模生產。

    現在幾乎沒人用了。

    接近式曝光,雖然不觸碰晶圓片,沒有損傷,良品率也高。但接近式曝光也有自己的問題,就是有光線衍射問題,光線衍射以後解像度低。想要提高良品率,只能損失解像度。

    生產處的晶片精度太差自然也沒人用了。

    投影式曝光會在掩膜版和光刻膠之間使用透鏡聚光來提高解像度。

    所以投影式曝光工藝是眼下晶片加工的主要工藝。

    不過投影式曝光只是大方向。

    下面還有不同的加工工藝分支。

    如進步式、掃描式、離軸同軸等等……

    其實晶片製造的難點就在這些加工工藝上了。

    不同的加工工藝代表了不同的生產速度和良品率。

    生產效率自然不可同日而語。

    而國內的光刻機之前的光源技術還停留在一代的水平。

    雖然曝光工藝也是投影式,但曝光工藝落後,生產速度和效率不行。

    而蘇翰說的突破,分三個層面,一個是光源上的突破,一個就是曝光工藝上的突破,還有各種生產材料上的突破。

    以前的國產光刻機是一代G光源。

    經過一年多的辛苦研發。

    終於突破到了二代I光源。

    畢竟這會的光刻機光源技術還沒有未來那麼變態。

    只要錢到位突破起來還是有可能的。

    制約晶片生產主要是投影式曝光的工藝流程。

    蘇翰對光刻機的相關知識其實了解的並不多,但他知道很多晶片設計圖紙,其實從這些圖紙上他就能推算出對方的工藝順序到底是什麼。

    畢竟他是精通晶片設計的,只是不精通設備生產和製造而已。

    不過有了工藝順序,起碼有個模湖的答桉。

    雖然答桉並不能保證百分之百準確。

    但蘇翰並不是要百分之百準確的答桉。

    百分之百準確不是抄襲別人了嗎。

    這樣容易惹起知識產權的糾紛。

    蘇翰只是給光刻機生產團隊一個工藝思路,剩下的就叫光刻機生產團隊自己去想辦法。點擊下載本站APP,海量小說,免費暢讀!



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